中新社北京7月14日电 (记者 孙自法)中国国家知识产权局14日公布的*新统计数据显示，2021年上半年，国外申请人在华发明*授权5.4万件，同比增长30%。国外申请人在华商标注册量为9万件，同比增长7.5%。其中，美国申请人在华发明*授权、商标注册同比分别增长35%和8.9%。

　　中国国家知识产权局当天下午在北京举行新闻发布会，具体公布2021年上半年知识产权主要统计数据并解读称，上半年中国知识产权数据，具有知识产权审查能力持续提升、国内拥有发明*企业数量稳定增加、国外申请人在华知识产权授权注册继续增长等三方面特点。

　　官方称，国外申请人在华知识产权授权注册继续增长这一特点表明，国外企业对中国营商环境抱有信心，愿意在华开展商业活动和知识产权布局。

　　此外，在知识产权审查能力持续提升方面，上半年*、商标、集成电路布图设计的授权量同比增长较快，这反映出中国市场主体创新创造创业更加活跃。同时，审查能力的持续提升也体现在*商标的审查周期上，截至6月底，中国发明*平均审查周期已压减至19.4个月，高价值*审查周期压减至13.4个月，商标注册平均审查周期稳定在4个月以内。

　　在国内拥有发明*企业数量稳定增加方面，截至6月底，中国国内拥有有效发明*的企业27万家，较上年底增加2.4万家。其中，高新技术企业12.6万家，共拥有有效发明*107.7万件，占国内企业有效发明*总量的62.3%，企业技术创新能力不断提升。(完)

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